目前印章制作的主要方法包括曝光法制作光敏印章及激光雕刻法制作激光雕刻印章。光敏印章及激光雕刻印章。影響印章印文特征的因素主要來自兩個方面:一是印章制作。雕刻清洗的過程;另一是印章使用過程中襯墊物軟硬、印油性質(zhì)及蓋印壓力。今天我們一塊看下電子刻章?的基本流程。

1.設(shè)計印章模板

印章模板的設(shè)計是印章制作過程中關(guān)鍵的步驟，決定了印章印文的內(nèi)容及排列方式。在設(shè)計印章的過程中,通過制作雕刻一體化軟件設(shè)置印章大小規(guī)格等參數(shù)，確定印章形狀外觀。對環(huán)排漢字印文內(nèi)容進行編輯，設(shè)置字高字距字體等參數(shù),確定印文內(nèi)容。在印文中央添加矢量五角星,完成印章模版的制作。

2.矢量五星

為提升印章防偽性能，可在印章下邊緣上方添加公章防偽碼,使之擁有更高的防偽價值。部分公章在矢量五角星中加入底紋,使之成為具有較高價值的防偽鑒定部位,進一步增強印章防偽效果。

3.制作印章

印章模板設(shè)計完成后，通過激光雕刻軟件設(shè)置各參數(shù),使用激光雕刻機完成印章的制作。雕刻時,將雕刻方式設(shè)置為陽刻,設(shè)置雕刻方向為鏡像。調(diào)整雕刻速度、分辨率.往返恒次數(shù)及雕刻功率等參數(shù),校準(zhǔn)激光雕刻頭的起始位置并開始雕J刻。激光雕刻印章在雕刻過程中常會出現(xiàn)焦糊現(xiàn)象，為保證印文質(zhì)量,在印章冷卻定型后需進行清洗,對印章邊緣非印文特位征線條也需進行適當(dāng)修飾,以達到理想效果。

制作光敏印章時，將已在激光雕刻軟件中設(shè)計完成的電子刻章?模板打印在硫酸紙上,將打印有印章模板的硫酸紙呈鏡像狀放自置在光敏墊與曝光膜間,夾在抽屜式曝光臺中,放入光敏印章機內(nèi)曝光即可完成印章制作。若將模板正向放置,會導(dǎo)致印文出現(xiàn)反字。也可利用激光雕刻印章蓋印印文，將印文掃描后轉(zhuǎn)換成黑白圖像, 打印在硫酸紙上,制成光敏印章。